这不是方丞造不了，而是要给上沪电子分杯羹，更重要的是他不能分出更多的产能给这个一代光刻机。

今年要大力推行氢动力汽车的普及和油改氢试点扩大化，百分之六十的主要的产能都要在这方面部署。

所以，说辞中的方案才是最好的方案。

很快，方丞在实验室里就完成了今天的任务。

然后，他又偷偷的出了门，直接赶到滨海厂区，在专属区域开启了【数字工厂】。

他快速的把半成品的光刻机从【量子空间】里转移到数字工厂中，继续把最后的那些零件往上组装。

两个小时很快过去，消耗掉了【数字工厂】今天的实体化时间后，全新一代的天神二代光刻机稳稳当当的出现在了那个大仓库当中。

这个光刻机，本身就是一个生产线，从切割晶圆到最后分割成品芯片再到封装都在这套系统内完成。

在产品目录中，这个新的产品叫做“光信息直写型芯片制造系统”

这个东西跟市面上的那些光刻机应用的技术都不一样。

新机器制作芯片，利用到了光的波粒二象性的原理。

它可以将目标芯片产品的所有信息转化成光信号，甚至可以随时根据需要决定是否再进一步转化成为电磁波。

然后这些转化后的信号可以通过高能电子束直接在晶片上进行轰击形成芯片电路。

简单点儿比喻，就是像刻纹身那样，晶片是皮肤，芯片设计信息是油墨，电子束是把油墨射出去的纹身笔。

直接来说，这种形式就是在用电子“写”芯片。

因为电子的直径远远低于紫外线波长，所以理论上来说，这个机器的制程工艺可以超越极限的小。

芯片界有个共识，在一个特定的区间内，芯片制程越小越好。

那么方丞现在就具备了探索这个区间下限的能力。

一想到这些，方丞就觉得暂时不公开这样一台超越目前理论的光刻设备，有点儿失策了。